Dispositif de gravure de surface de substrat semi-conducteur, et procédé de fabrication d'un substrat semi-conducteur sur lequel des formes irrégulières sont formées sur la surface de celui-ci à l'aide dudit dispositif

La presente invention traite un probleme de fourniture d'un dispositif qui grave une surface de substrat semi-conducteur d'une maniere qui est adaptable a une production de masse tout en utilisant en tant que gaz de gravure un gaz qui reagit thermiquement avec le substrat semi-conducteur. Un dispositif de gravure de surface de substrat semi-conducteur comprend : une chambre a sas de chargement ; une chambre de gravure qui peut etre depressurisee jusqu'a une pression inferieure ou egale a la pression atmospherique ; une chambre a sas de dechargement ; un mecanisme de transport destine a transporter un plateau recevant un substrat semi-conducteur de la chambre a sas de chargement a la chambre a sas de dechargement, en passant par la chambre de gravure ; et un mecanisme de refroidissement qui refroidit le substrat semi-conducteur et/ou le plateau. Le dispositif de gravure de surface comporte une pluralite de buses dans la chambre de gravure, lesquelles buses dechargent du gaz de gravure en direction de la surface du substrat semi-conducteur qui est recu dans le plateau.