ポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法
2005
【課題】低比誘電率であり、薬液耐性などにも優れ、半導体素子などにおいて好適に用いることができるポリマーの製造方法を提供する。 【解決手段】本発明のポリマーの製造方法は、(A)ポリシロキサン化合物と、(B)ポリカルボシラン化合物とを、触媒、水および有機溶媒の存在下で混合し、加熱することを含む。(A)成分は、加水分解性基を有するシラン化合物を加水分解縮合することにより得られ、(A)成分の完全加水分解縮合物に換算した100重量部に対して、前記(B)成分が1〜1000重量部である。 【選択図】なし
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