Procédé de fabrication d'écran plasma

La presente invention concerne un procede de fabrication d'ecran plasma, selon lequel une couche protectrice (9) est formee par le depot d'un film de base (91) sur une couche dielectrique (8), suivie de la formation d'une pâte de particules cristallines dans laquelle une pluralite de particules cristallines (92a) composees d'un oxyde metallique sont dispersees, et ensuite le chauffage du film de base et du film de pâte de particules. Grâce a ce procede, la pluralite de particules cristallines peut adherer au film de base de sorte que les particules cristallines soient distribuees sur l'ensemble du film de base. La pâte de particules cristallines presente une viscosite a un taux de cisaillement de 1.0 s -1 comprise entre 1 Pa ⋅ s et 30 Pa ⋅ s.