Procédé pour la formation de film de tungstène

L'invention porte sur un procede pour la formation d'un film de tungstene, qui comprend les etapes suivantes : la disposition d'un substrat a traiter dans une cuve de traitement ayant une atmosphere sous pression reduite ; l'apport d'un gaz reducteur et d'un gaz au chlorure de tungstene qui sert de source de tungstene a la cuve de traitement soit en alternance, une purge de la cuve de traitement etant effectuee entre les apports, soit simultanement ; le chauffage du substrat a traiter ; et l'operation consistant a amener le gaz au chlorure de tungstene et le gaz reducteur a reagir l'un avec l'autre sur le substrat a traiter chauffe, ce qui forme de cette maniere un film de tungstene.