水性アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物、フォトマスクおよび電子デバイスの製造方法

(57)【要約】 【課題】 少ない工程数で製造でき、高精度、低欠陥の ＫｒＦエキシマレーザリソグラフィ用フォトマスクを提 供する。 【解決手段】 本発明のＫｒＦエキシマレーザリソグラ フィ用フォトマスクは、石英ガラス基板１０上にＫｒＦ エキシマレーザ光（波長：約２４８ｎｍ）を効率的に吸 収するレジストパターン１８を直接形成したものであ る。レジストパターン１８は、ナフタレン核に少なくと も一つの水酸基が結合したナフトール構造を組み込んだ 高遮光性の水性アルカリ可溶性樹脂または上記水性アル カリ可溶性樹脂の誘導体を高分子樹脂マトリックスとす る水性アルカリ可溶性樹を主成分とする感光性樹脂組成 物からなる。