Determination of aluminium, arsenic, and phosphorus in silicon by graphite furnace atomic absorption spectrometry and direct current plasma-atomic emission spectrometry

1990 
Proposition d'une nouvelle methode de preparation d'echantillon pour le dosage de trace de AP, As et P dans du silicium. Pour le dosage de Al et As par GFAAS avec correction d'effet Zeeman, on utilise les nitrates de Mg et Ni comme modificateur de matrice. Pour le dosage d'Al par DCP-AES, l'addition de nitrate de lithium est necessaire
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