Composition pour l'électroplacage de métal comprenant un agent égalisant

L'invention porte sur une composition comprenant une source d'ions metalliques et au moins un additif comprenant au moins un polyaminoamide, ledit polyaminoamide comprenant le motif de structure represente par la formule I, ou des derives du polyaminoamide de formule I pouvant etre obtenus par protonation, N-fonctionnalisation ou N-quaternisation totale ou partielle avec un reactif non aromatique. Dans la formule I, D 6 represente, independamment pour chaque motif repete 1 a s, un groupe divalent choisi parmi les radicaux organiques en C 1 -C 20 satures ou insatures ; D 7 represente, independamment pour chaque motif repete 1 a s, un groupe divalent choisi parmi les groupes alcanediyle en C 2 -C 20 a chaine droite ou ramifies, qui peuvent eventuellement etre interrompus par des heteroatomes ou groupes divalents choisis parmi O, S et NR 10 ; R 1 est, independamment pour chaque motif repete 1 a s, choisi parmi H, un groupe alkyle en C 1 -C 20 et un groupe alcenyle en C 1 -C 20 , qui peuvent eventuellement etre substitues par des substituants hydroxyle, alcoxy ou alcoxycarbonyle, ou, conjointement avec R 2 , R 1 peut former un groupe divalent D 8 ; R 2 est, independamment pour chaque motif repete 1 a s, choisi parmi H, un groupe alkyle en C 1 -C 20 et un groupe alcenyle en C 1 -C 20 , qui peuvent eventuellement etre substitues par des substituants hydroxyle, alcoxy ou alcoxycarbonyle, ou, conjointement avec R 1 , R 2 peut former un groupe divalent D 8 ; D 8 est choisi parmi les groupes alcanediyle en C 1 -C 18 a chaine droite ou ramifies, qui peuvent eventuellement etre interrompus par des heteroatomes ou groupes divalents choisis parmi O, S et NR 10 ; s represente un nombre entier de 1 a 250 ; et R 10 est choisi parmi H, un groupe alkyle en C 1 -C 20 et un groupe alcenyle en C 1 -C 20 , qui peuvent eventuellement etre substitues par des substituants hydroxyle, alcoxy ou alcoxycarbonyle.