procédés pour améliorer la défectivité dans des films en carbone amorphe pecvd

La presente invention concerne un objet comportant un revetement protecteur destine a etre utilise dans des applications semi-conductrices et des procedes de fabrication de celui-ci. Dans un mode de realisation, un procede de revetement d'une surface en aluminium d'un objet utilise dans une chambre de traitement de semi-conducteur est propose. Le procede comprend la fourniture d'une chambre de traitement, le placement de l'objet dans la chambre de traitement, la circulation d'un premier gaz comprenant une source de carbone dans la chambre de traitement, la circulation d'un second gaz comprenant une source d'azote dans la chambre de traitement, la formation d'un plasma dans la chambre et le depot d'un materiau de revetement sur la surface en aluminium. Dans un mode de realisation, le materiau de revetement comprend une couche de carbone amorphe contenant de l'azote. Dans un mode de realisation, l'objet comprend une pomme de douche configuree pour fournir un gaz a la chambre de traitement.