Diklofenak’ın Fotokimyasal İleri Oksidasyon Prosesleri ile Arıtılabilirliğinin Araştırılması

Bu calismada secilen ilac, antienflamatuar yapiya sahip ilaclar icerisinde en yuksek akut toksisitesi bulunan Diklofenak ilacidir. Aritim yontemlerinden UV ve kombinasyonlari (UV/H2O2, UV/TiO2, UV/ZnO) calisilmistir. Diklofenak iceren sentetik suyun UV, UV/H2O2, UV/TiO2 ve UV/ZnO yontemleri ile 0-10-20-30-40-50-60.dakikalarda numune alinarak giderimi incelenmistir. UV/H2O2 prosesi icin 50, 100, 200, 400, 800 mg/L konsantrasyonlarinda, UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesleri icin ise 40, 80, 160, 240, 320 mg/L konsantrasyonlarinda farkli Diklofenak cozeltileri hazirlanmistir. Calismada diklofenak konsantrasyonlari LC-MS/MS ve TOK cihazlari ile olculmustur. Tum proseslerde calisma kosullari ayni kalmistir. LCMS-MS analizinde UV prosesisi icin Diklofenak giderim verimi %55,23, UV/H2O2 ile Diklofenak giderimi ise 200 mg/L H2O2 konsantrasyonunda %>99,99 bulunmustur. TOK giderimi UV proseste %30,71, UV/H2O2 prosesinde ise en yuksek verim 800 mg/L’de %97 olarak bulunmustur. UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesi sonucunda TOK giderimi 320 mg/L’de sirasiyla %93,23 ve %96,10 bulunmustur. LC-MS/MS analiz sonuclarinda ise 240 mg/L TiO2 ve ZnO konsantrasyonlarinda Diklofenak giderimi %>99,99 olarak bulunmustur. Sonuclara gore UV prosesinin tek basina etkinligi %10-30 iken UV/ZnO, UV/TiO2, UV/H2O2 gibi kombinasyonlarinda daha etkili giderim verimi elde edilmistir. Maliyet acisindan ise optimum proses UV/H2O2 (200 mg/L) prosesi bulunmustur.