Procédés et appareils de nettoyage de structures de substrat avec de l'hydrogène atomique

L'invention concerne des procedes et des appareils de nettoyage de structures de substrat. Selon certains modes de realisation, un procede de nettoyage de structures d'un substrat peut comprendre la fourniture d'un gaz contenant de l'hydrogene vers une chambre de traitement ayant une pluralite de filaments ; la circulation d'un courant a travers la pluralite de filaments pour augmenter une temperature de la pluralite de filaments vers une premiere temperature suffisante pour decomposer au moins une partie du gaz contenant de l'hydrogene ; et le nettoyage de structures d'un substrat par exposition des structures aux atomes d'hydrogene formes par la decomposition du gaz contenant de l'hydrogene.