洗浄装置、これを用いた洗浄システム、及び被洗浄基板の洗浄方法

【課題】チャンバ内の雰囲気を安定させて従来のトラブルの発生を防止することができる洗浄装置を提供する。 【解決手段】本発明の洗浄装置は、半導体基板、液晶ガラス基板、磁気ディスク等の被洗浄基板２を容器３内にて洗浄するものであって、空気や不活性ガス等を容器３内に供給する手段５、２１、３１と、容器３内から空気や不活性ガスを排出する手段とを備え、空気や不活性ガス等を排出する手段は、容器３の圧力を制御する圧力制御手段７Ｂを有している。圧力制御手段７Ｂは、圧力計７Ｃの検出値によりその開度を制御する制御弁７Ａを含む。 【選択図】 図６