Verfahren zur Herstellung von strahlungsresistentem Quarzglasmaterial und Quarzglasmaterial

Ein Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasmaterials mit hoher Widerstandsfahigkeit gegen strahlungsinduzierte Dichteanderungen bei der Bestrahlung mit Ultraviolettstrahlung bei ca. 193 nm und Energiedichten in der Grosenordnung von Gebrauchsenergiedichten von optischen Systemen fur die Mikrolithographie ist gekennzeichnet durch eine Minimierung des Anteils von Peroxydefekten in dem Quarzglasmaterial. Hierdurch kann die Entstehung eng benachbarter Hydroxylgruppen gehemmt werden, welche als eine wesentliche Ursache fur eine strahlungsinduzierte Dichteabnahme des Quarzglasmaterials identifiziert wurden.