Composition de liant absorbant, procede de fabrication de cette composition et articles dans lesquels est incorporee cette composition

Cette invention se rapporte a une composition de liant absorbant qui est capable de reticulation spontanee apres application sur un substrat, a une temperature d'environ 120° C ou inferieure. Cette composition de liant absorbant contient un polymere monoethyleniquement insature, tel que de l'acide carboxylique, de l'acide sulfonique ou de l'acide phosphorique, ou des sels de ceux-ci, ou un sel d'ammonium quaternaire et un ester d'acrylate ou de methacrylate ayant une fonction alcoxysilane, ou un monomere capable de copolymerisation avec un compose contenant un groupe fonctionnel trialcoxysilane et d'une reaction ulterieure avec de l'eau, afin de former un groupe silanol. Cette composition de liant absorbant est particulierement appropriee pour etre utilisee dans la fabrication d'une grande variete d'articles absorbants. Un procede de fabrication de cette composition de liant absorbant consiste a preparer une solution monomere, a ajouter cette solution monomere a une solution initiatrice qui contient egalement un monomere, et a activer un initiateur de polymerisation dans cette solution initiatrice. Cette invention concerne egalement une composition de liant absorbant souple qui est capable de reticulation spontanee apres application sur un substrat, a une temperature d'environ 120° C ou inferieur. Cette composition de liant absorbant souple contient environ 15 a environ 99,8 % en masse de motifs polymeres monoethyleniquement insatures, environ 0,1 a environ 20 % en masse de motifs d'ester de polyacrylate ayant une fonction alcoxysilane, et environ 0,1 a environ 75 % en masse de motifs polymeres selectionnes parmi des glycols de polyolefine et des oxydes de polyolefines. On peut preparer cette composition de liant absorbant souple en utilisant un procede de polymerisation modele, dans lequel le glycol de polyolefine ou l'oxyde de polyolefine preforme sert de polymere modele.