Method and device for large-area coating of substrates under atmospheric pressure conditions

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Vorrichtung zur grosflachigen Beschichtung von Substraten bei Atmospharendruckbedingungen, wobei unter letzterem ein Druckintervall von ± 300 Pa um den jeweiligen Umgebungsatmospharendruck verstanden werden soll. Mit der erfindungsgemasen Losung sollen Beschichtungen bei Atmospharendruckbedingungen auf grosen Flachen, bei gleichzeitiger Vermeidung der unerwunschten Partikelbildung erhalten werden konnen. Zur Losung dieser Aufgabe wird in eine Plasmaquelle ein erster Gasstrom gefuhrt, der Plasma aus einem grosvolumigen Plasma aus der Plasmaquelle austreibt und das erzeugte Plasma durch mindestens eine Schlitzduse oder eine Mehrzahl von Dusen auf eine zu beschichtende Oberflache des Substrates, die innerhalb einer abgedichteten Reaktionskammer angeordnet ist, richtet. Die Schichtausbildung erfolgt unmittelbar auf der Oberflache des Substrates durch physiko-chemische Reaktion mindestens einer Komponente eines Precursors. Der Precursor ist Bestandteil mindestens eines zweiten Gasstromes, der in die Reaktionskammer und in den Einflussbereich des aus der Plasmaquelle austretenden Plasmas gerichtet wird. Weiter wird durch Einstellung der Volumenstrome, der Stromungsgeschwindigkeiten und/oder der Stromungsrichtungen des Plasmas und des zweiten Gasstromes sowie des Abstandes von Dusenoffnungen fur das Plasma und eines vorgebbaren Innendrucks in der Reaktionskammer gesichert, dass die physiko-chemische Reaktion zur Ausbildung der ...