Systèmes et procédés de préparation de films épais texturés par épitaxie

L'invention concerne l'utilisation de la cristallisation par laser de films minces en vue de former des films epais cristallins textures par epitaxie. Dans un ou plusieurs modes de realisation, un procede de preparation d'un film cristallin epais comprend les etapes qui consistent a prevoir un film de cristallisation sur un substrat, au moins une partie du substrat etant essentiellement transparente vis-a-vis du rayonnement laser, ledit film comprenant une couche de germination qui presente une orientation cristallographique de surface predominante et une couche superieure disposee au-dessus de la couche de germination; a irradier le film depuis l'arriere du substrat en utilisant un laser pulse en vue de faire fondre la premiere partie de la couche superieure a l'interface avec la couche de germination pendant qu'une deuxieme partie de la couche superieure reste solide; et a resolidifier la premiere partie de la couche superieure pour former avec la couche de germination une epitaxie cristalline par laser pour ainsi liberer de la chaleur qui fera fondre une partie adjacente de la couche superieure.