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熱CVD成長SiN膜をゲート絶縁膜に用いたゲートリセス構造MIS‐AlGaN/GaN‐HEMT特性
熱CVD成長SiN膜をゲート絶縁膜に用いたゲートリセス構造MIS‐AlGaN/GaN‐HEMT特性
2008
marui tosiharu
seima iti
itou masanori
tamai kou
toda norihiko
ookita hideyuki
sano yosiaki
kan syouhei
Keywords:
algan gan
Optoelectronics
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