Les techniques de gravure des surfaces de semiconducteurs ou isolants par les faisceaux d'ions multichargés : Le marquage

Les faisceaux d'ions tres charges possedent un potentiel dont l'etendue est encore insoupconnee aujourd'hui. En effet, il se pourrait que ces faisceaux jouent un role tres important dans la gravure de semiconducteurs. Tour d'horizon de cette technique a l'avenir prometteur... On sait depuis une dizaine d'annees produire des faisceaux d'ions tres charges. Ces faisceaux ouvrent une nouvelle voie, encore peu connue, pour la gravure des isolants et des semiconducteurs. Cet article presente les proprietes originales de ces faisceaux compares aux faisceaux d'electrons, ions une fois charges et photons. Il presente notamment quelques approches permettant la gravure au niveau nanometrique par nanochimie ou pulverisation.