Herstellungsverfahren für ein Trockenätzgas für Halbleiterverfahren

Verfahren zur Herstellung hochgradig reinen Octafluorcyclapentens zur Verwendung in Trockenatzverfahren, umfassend: (1) Umsetzen von Octachlorcyclopenten mit KF in einer kontinuierlichen Art und Weise unter Verwendung eines Reaktionssystems, worin zwei mit KF beladene Filter parallel angeordnet sind, und diese mit einem Octachlorcyclopenten enthaltenden Reaktor in alternierender Art und Weise durch Offnen von Ventilen zwischen den Filtern und dem Reaktor abwechselnd kommunizieren konnen, um rohes Octafluorcyclopenten mit einer Reinheit von 50 bis 80 Vol.-% herzustellen, und (2) Reinigen des rohen Octafluorcyclopentens durch Entfernen von organischen Materialien mit Siedepunkten, die niedriger sind als derjenige von Octafluorcyclopenten, aus dem rohen Octafluorcyclopenten durch fraktionierte Destillation und durch Abtrennung von Metallbestandteilen und organischen Materialien mit Siedepunkten, die hoher sind als derjenige von Octafluorcyclopenten, durch fraktionierte Destillation, um Octafluorcyclopenten als Gas zu gewinnen, wobei eine gasformige Octafluorcyclopentenzusammensetzung, enthaltend C 5 F 8 in einer Menge von 99,995 Vol.-% oder mehr, Stickstoff in einer Menge von 50 Vol.-ppm...