Dispositif de production de silicium

L'invention porte sur un dispositif de production de silicium employant une nouvelle structure de fixation au tube de reaction. Le dispositif peut se conformer a la dilatation thermique du tube de reaction sans necessiter la suspension du tube de reaction. Le dispositif (1) de production de silicium comprend un corps principal (2) de recipient de reaction dans lequel se trouve une partie de reaction (3), la partie de reaction etant equipee de : une conduite d'alimentation en gaz (6) a travers laquelle un compose chlorosilane et de l'hydrogene sont introduits ; un tube de reaction (7) dans lequel du silicium est depose ; une bobine haute frequence (11) qui a ete disposee sur le cote exterieur de la peripherie du tube de reaction (7) et qui fait fondre le silicium depose ; une matiere d'isolation thermique (9) disposee entre le tube de reaction (7) et la bobine haute frequence (11) ; et une paroi intermediaire (8) qui a ete disposee dans une partie inferieure de la partie de reaction (3) et supporte la matiere d'isolation thermique (9). Le tube de reaction (7) est supporte sur la partie superieure de la paroi intermediaire (8).