Etude de la structure electronique d'interfaces zircone/metal et zircone/oxydes

La structure electronique d'interfaces zro#2/ni, zro#2/nio et zro#2/al#2o#3 a ete etudiee par xps (x-ray photoelectron spectroscopy). Les depots de zircone ont ete realises sous ultra-vide avec des couvertures suffisamment faibles pour que la region interfaciale puisse etre analysee. La rbs (rutherford backscattering spectrometry) a permis de controler l'epaisseur des depots. D'apres les resultats xps et epma (electron probe for micro analysis), la zircone deposee est stchiometrique. Le mode de croissance des depots est discute a partir de l'analyse quantitative des donnees xps. Aucune reaction chimique n'a ete mise en evidence a l'interface zro#2/ni. Pour les substrats oxydes, nio et al#2o#3, la presence de zircone entraine des modifications importantes de la structure electronique de ces substrats