Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N

Abstract The pyrolysis behaviours of titanocene dichloride and vanadocene used as a precursor for the chemical vapor deposition of titanium carbide and vanadium carbide, respectively, are studied. The influence of the gas-phase transport of these compounds on the properties of the deposits is also discussed according to the vaporization procedure.