基板処理装置、基板処理方法、塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体

【課題】現像欠陥を抑えて、歩留りの低下を抑えることができ、さらに後段の装置における処理の手間を軽減させることができる、露光された後の基板を加熱する基板処理装置を提供すること。 【解決手段】表面にレジストが塗布され、さらに露光された後の基板を加熱する加熱板と、前記レジストに供給する現像液の前記基板への濡れ性を高めるための表面処理液を霧化する表面処理液霧化手段と、前記加熱板により加熱された基板を冷却するための冷却手段と、前記加熱板による加熱が開始されてから前記冷却手段による冷却が終了するまでに、霧化した前記表面処理液を基板に供給する表面処理液供給手段と、を備えるように基板処理装置を構成する。 【選択図】図１