Euv-lithographieanlage und verfahren

Es wird offenbart eine EUV-Lithographieanlage (100) mit einem Projektionssystem (104), in welchem ein optisches System (138) angeordnet ist, wobei das optische System (13) aufweist: eine Obskurationsblende (200) zum Blockieren zumindest eines Bereichs (204) eines Strahlengangs (206), und eine Manipulationseinrichtung (202) zum Verschieben und/oder Verkippen der Obskurationsblende (200).