플라즈마 처리를 위한 유도 결합 플라즈마 소스

플라즈마 처리 장치 및 방법이 개시된다. 본 개시 내용의 실시예들은, 처리 가스를 공급받도록 동작 가능한 내부 공간을 갖는 처리 챔버, 기판을 유지하도록 동작 가능한 처리 챔버 내부 내에 있는 기판 홀더 및 적어도 하나 유전체 윈도우를 구비한다. 금속 실드는 유전체 윈도우에 인접하게 배치된다. 금속 실드는 주변부와 중앙부를 가질 수 있다. 처리 장치는 금속 실드의 주변부에 인접한 처리 챔버 외부에 배치된 1차 유도 요소를 포함한다. 처리 장치는 금속 실드의 중앙부와 유전체 윈도우 사이에 배치된 2차 유도 요소를 더 포함할 수 있다. 1차 및 2차 유도 요소는 상이한 기능을 수행할 수 있고, 상이한 구조적 구성을 가질 수 있으며, 상이한 주파수에서 동작될 수 있다.