Composition de formation de film à base de silice pour jet d'encre, procédé de formation de film à base de silice, dispositif à semi-conducteurs, et système de cellules solaires

L'invention concerne une composition de formation de film a base de silice pour jet d'encre qui comprend : un compose silicium obtenu par hydrolyse/polycondensation d'un compose represente par la formule generale R 1 n SiX 4-n ; un solvant; et un regulateur de surface. Le solvant contient un γ-butyrolactone, un second solvant dont le point d'ebullition se situe entre 80 et 100°C, et un troisieme solvant dont le point d'ebullition se situe entre 180 et 230°C. Pour la masse totale de solvant, le rapport de masse du γ-butyrolactone est superieur ou egal a 0,2, et le rapport de masse du second solvant se situe entre 0,2 et 0,5. Dans la formule, R 1 represente un groupe organique de 1 a 20 atomes de carbones, X represente un groupe hydrolysable, et n represente un entier de 0 a 2.