Fabrication of Ultraprecisely Figured Elliptical Mirror for Nano-Focusing of Hard X-ray and Evaluation of Focusing Properties

2005

数値制御PCVMと数値制御EEM, 新たに開発した形状計測システムRADSIによりX線集光ミラーを作製した. SPring-8において1次元集光特性の評価を行った結果, 15keVのX線で集光強度プロファイルのFWHMで回折限界に近い40nmを実現した.

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