電子線またはｅｕｖ（極端紫外光）用レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

このレジスト組成物は、（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分、および（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、 　前記（Ｂ）成分が、下記一般式（ｂ－０－１）、（ｂ－０－２） 　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ［式中、Ｘは、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数２～６のアルキレン基を表し；Ｙ、Ｚは、それぞれ独立に、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１～１０のアルキル基を表す］で表されるアニオンを有するオニウム塩を少なくとも１種以上含有することを特徴とする電子線またはＥＵＶ（極端紫外光）用レジスト組成物である。