Method of manufacturing a semiconductor device manufacturing apparatus and a recording medium of a semiconductor device

2006

シリコン含有膜が形成された基板を処理室内に収容する工程と、ガス供給部から処理室内にガスを供給し、処理室内を大気圧以上の圧力にする工程と、処理液供給部から基板に処理液を供給し、シリコン含有膜を酸化する酸化工程と、有する。

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