Projektionsbelichtungsobjektiv mit zentraler Obskuration und Zwischenbildern zwischen den Spiegeln

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv zur Abbildung eines Objekts, insbesondere zur Abbildung einer Struktur in der Lithographie, bei dem eine Spiegeleinheit (TS1, TS3; K) vorgesehen ist, die so ausgebildet ist, dass innerhalb der Spiegeleinheit, insbesondere zwischen zwei gegenuberliegenden Spiegeln (S1, S2), mindestens ein Zwischenbild (ZB2) erzeugt wird.