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Ge CMOSのためのキャリア活性化増強(CAE)技術を用いた超低接触抵抗NiGeのその場接触形成
Ge CMOSのためのキャリア活性化増強(CAE)技術を用いた超低接触抵抗NiGeのその場接触形成
2014
Miyoshi Hidenori
Ueno Tetsuji
Akiyama Koji
Hirota Yoshihiro
Kaitsuka Takanobu
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