Polycondensats d'acide silicique modifies organiquement, leur production et leur utilisation

L'invention concerne des polycondensats d'acide silicique, structurables sous l'effet de la lumiere, presentant une epaisseur de couche comprise entre 1 et 150 νm, permeables aux infrarouges proches, durcissants aux UV, stables au stockage et modifies organiquement. L'invention concerne egalement leur production et leur utilisation comme resist negatif. Ces polycondensats s'obtiennent par condensation de silanediols modifies organiquement, de formule (I), avec des silanes modifies organiquement, de formule (II): Ar2Si(OH)2 (I) RSi(OR')3 (II). Les radicaux sont identiques ou differents et possedent la signification suivante: Ar represente un radical comportant 6 a 20 atomes de carbone et au moins un groupe aromatique; R represente un radical organique comportant 2 a 15 atomes de carbone et au moins un groupe epoxy et/ou au moins une double liaison C=C; R' represente methyle ou ethyle. La condensation s'effectue sans addition d'eau. Le rapport molaire des composes (I) et (II) s'eleve a 1:1. Jusqu'a 90 % en moles du compose de la formule (II) peuvent etre remplaces par des composes co-condensables de bore, aluminium, silicium, germanium, titane et zirconium.