Film optique et procédé de fabrication d'un film optique

La presente invention a pour objet de produire un film optique avec lequel la deterioration de nanoparticules en semiconducteur due a l'infiltration par de l'oxygene ou de l'eau peut etre reduite au minimum pendant une longue periode, et qui possede une excellente resistance de defaut (resistance DS) et resistance au detachement de film de bordure (cohesion) pendant un processus de gravure au poincon, ainsi qu'un rendement lumineux eleve ; et un procede de fabrication de celui-ci. Le film optique selon l'invention est caracterise en ce qu'il possede au moins un materiau de base A, une premiere couche de barriere contre les gaz A comprenant un oxyde metallique, une couche de nanoparticules en semiconducteur contenant des nanoparticules en semiconducteur et une resine durcissable aux UV, une premiere couche de barriere contre les gaz B, et un materiau de base B, dans cet ordre, et en ce qu'il contient en outre un compose polymere ayant un groupe a structure cyclique.