The inner wall surface treatment method of micro-Check

被処理基体に設けたホールが譬え細く深いホールであっても、エッチングや洗浄を確実に行うことが出来るホール内壁面処理方法を提供する。 処理液（１０６）が付与される表面と該表面に開口（１１０）を有するマイクロ空室（１０４）を内部に有し、マイクロ空室（１０４）のアスペクト比（ｌ/ｒ）が５以上かまたはアスペクト比が５未満でかつＶ／Ｓ(Ｖ: マイクロ空室の容積、Ｓ：開口の面積)が３以上である基体（１００）を処理空間に設置する。 次いで、マイクロ空室（１０４）の内部を酸化シリコン膜形成用の環境に晒してマイクロ空室（１０４）の内壁表面に酸化シリコン膜（２０１）を形成する。 その後処理空間に処理液（１０６）を導入してマイクロ空室（１０４）の内壁面を処理する。