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1111 Siの異方性エッチングを利用した高アスペクト比形状形成技術(要旨講演,マイクロメカトロニクス)
1111 Siの異方性エッチングを利用した高アスペクト比形状形成技術(要旨講演,マイクロメカトロニクス)
2007
sinya nagao
fumikazu oohira
sinbo hosogi
hara hasiguti
Keywords:
Deep reactive-ion etching
Composite material
Aspect ratio (aeronautics)
Materials science
anisotropic etching
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