GaN 用衬底材料 LiGaO_2 晶体超精密抛光的初步实验
1997
主要介绍了作为发光半导体GaN衬底材料的LiGaO2单晶超精密抛光方法及初步结果。利用聚氨酯抛光盘配合SiO2悬浮液,采用机械化学抛光的方法,已加工出表面粗糙度优于0.1mm,的超光滑表面。
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