NbVN hard thin films and method of preparation

本发明公开了NbVN硬质纳米薄膜及其制备方法，其特征在于薄膜分子式为（Nb,V）N，厚度为1～3μm，V含量为0～50at.%，该薄膜的摩擦系数在室温至700℃范围内随着温度的升高而降低。 是利用双靶共焦射频反应法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，沉积时，真空度<3.0×10-3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积；溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（1～10），Nb靶溅射功率100W～300W，V靶溅射功率0～150W。 本发明的制备方法具有高的生产效率，所得薄膜具有高硬度和优异的摩擦磨损性能，可作为高速、干式切削的纳米结构硬质薄膜。