감광성 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물

통상의 포토레지스트용 고분자 보다 크기가 작고, 보다 잘 정의된 구조를 가지는 감광성 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물이 개시된다. 상기 감광성 화합물은 하기 화학식의 구조를 가진다. 또한, 상기 포토레지스트 조성물은, 하기 화학식으로 표시되는 감광성 화합물 1 내지 85 중량%; 상기 감광성 화합물 100 중량부에 대해 광산발생제 0.05 내지 15 중량부; 및 나머지 유기용매를 포함한다. 상기 화학식에서, n은 0 또는 1 이고, x는 1, 2, 3, 4 또는 5 이고, y는 2, 3, 4, 5 또는 6 이며, z는 0, 1, 2, 3 또는 4 이고, R, R' 및 R"은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 30, 바람직하게는 탄소수 2 내지 20의 탄화수소기이고, R"'은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 30, 바람직하게는 탄소수 2 내지 20의 탄화수소기이다. 포토레지스트, 감광성 화합물