Ion beam assisted deposition of evaporated thin silver films
1989
Depot des couches d'argent (80 a 500 nm) avec un faisceau ionique d'ions argon en faisant varier le rapport ion a espece neutre de 0 a 0,35. Determination du coefficient de reflexion, de la resistivite electrique et des parametres cristallins en fonction du rapport ion/espece neutre
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