Composition de résist positif, procédé de formation de motif utilisant la composition, et composé utilisé dans la composition

L'invention concerne une composition de resist positif dont la forme de motif, la rugosite de bord de ligne, la reduction de motif, la sensibilite et la resolution en exposition conventionnelle (exposition seche), en exposition par immersion dans un liquide et en double exposition sont bonnes. Un procede de formation de motif utilisant une telle composition de resist positif est egalement decrit. Une composition de resist positif contenant (a) un compose qui genere un acide lorsqu'il est irradie avec un rayon ou un rayonnement actif ; (b) un compose dont la solubilite dans un developpeur alcalin est augmentee par l'action d'un acide, et (c) un compose ayant une structure specifique, qui se decompose et genere un acide lors de l'action d'un acide. Un procede de formation de motif utilisant une telle composition de resist positif, et des composes utilises dans la composition de resist positif, sont decrits de maniere specifique.