Procédé de fabrication de cliché destiné à un offset, et cliché destiné à un offset

L'invention concerne un procede de fabrication d'un cliche pour impression offset, et un cliche pour impression offset fabrique a l'aide du procede. Le procede de fabrication d'un cliche pour impression offset comprend les etapes consistant : a former un motif de masque de protection contre la lumiere sur un substrat ; a former une couche de resine photosensible negative sur le substrat sur lequel est forme le motif de masque de protection contre la lumiere ; a exposer la couche de resine photosensible negative a de la lumiere par application de la lumiere sur le substrat ; et a former une couche de motif de resine photosensible negative comportant une partie gaufree saillante et un motif de rainure developpe par soumission de la couche de resine photosensible negative exposee a un developpement, la couche de resine photosensible negative ayant une epaisseur moyenne superieure ou egale a 3 µm, la couche de motif de resine photosensible negative comprenant au moins deux types de motifs de rainure ayant des largeurs de ligne differentes, et lesdits deux types de motifs de rainure ayant une difference de largeur de ligne superieure ou egale a 10 µm entre elles et etant relies l'un a l'autre.