Appareil et procédés pour imagerie par faisceau d'électrons à haute résolution

Un mode de realisation de l'invention concerne un appareil pour imagerie par faisceau d'electrons a haute resolution. L'appareil comprend un filtre energetique configure pour limiter un etalement energetique des electrons dans le faisceau d'electrons incident. Le filtre energetique peut etre forme en utilisant un filtre de Wien stigmatique et une ouverture de filtre. Un autre mode de realisation concerne un procede de formation d'un faisceau d'electrons incident pour un appareil a faisceau d'electrons a haute resolution. Un autre mode de realisation concerne un filtre de Wien stigmatique qui comprend des electrodes conductrices incurvees. Un autre mode de realisation concerne un filtre de Wien stigmatique qui comprend une paire de culasses magnetiques et un deflecteur a poles multiples. L'invention concerne egalement d'autres modes de realisation, aspects et fonctionnalites.