多孔質膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、層間絶縁膜及び半導体装置

【課題】誘電特性、密着性、塗膜の均一性、機械強度に優れ、吸湿性を低減化した多孔質膜を形成しうる膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、及びこの多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。 【解決手段】界面活性剤と、界面活性剤の存在下で下記一般式（１）で表される一以上のアルコキシシランと一般式（２）で表される一以上のアルコキシシランとを加水分解縮合して得られる重合体を含む溶液とを含んでなる多孔質膜形成用組成物を用いる。 （Ｒ １ ） ｍ Ｓｉ（ＯＲ ２ ） ４−ｍ （１） Ｒ ３ Ｓｉ（Ｒ ４ ） ｎ （ＯＲ ５ ） ３−ｎ （２） また、多孔質膜形成用組成物を塗布する塗布工程と多孔質化工程とを含む多孔質膜の製造方法等を用いる。 【選択図】 なし