微細構造体の製造方法、2値マスク、および2値マスクの製造方法

2002 
(57)【要約】 【課題】 曲面などのグレーレベルの形状をグレーマス クを用いずに製造可能とする。 【解決手段】 露光装置の最小分解能より小さい面積単 位のドット61を備えた2値マスク60を提供する。こ のドット61のオン・オフの面積比率により、2値マス ク60を透過する露光量を制御することにより、マスク 60のドット61のパターンを忠実に再現するのではな く、面積比率に対応した濃淡で被加工体を露光し、グレ ーレベルの構造を加工することができる。
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