Untersuchungen zum thermischen Abbauverhalten von Methylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymeren

Die Erhohung der Strahlenempfindlichkeit von polymeren Resistmaterialien ist fur den Einsatz in der Mikroelektronik von grosem Interesse. Am Beispiel der thermischen Vorbehandlung von Methylmethacrylat-Methacrylsaure-Copolymeren in einer Acetophenon-Losung wird gezeigt, das unter Abspaltung von Wasser und Methanol eine intramolekulare Bildung von cyclischen Anhydridgruppen erfolgt, die bevorzugt durch ionisierende Strahlung gespalten werden. Das thermische Abbauverhalten und die Bestimmung des Anhydridgehaltes werden durch kombinierten Einsatz von TG, MTA, TL und NMR untersucht. Increase of radiation sensitivity of polymeric resists is very important for applications in the semiconductor industry. By thermal pretreatment of methyl methacrylate-methacrylic acid copolymers in acetophenon solution it is shown that with liberation of water and methanol intramolecular formation of cyclic anhydride groups takes place. These groups are preferentially decomposed by ionizing radiation. Thermal degradation and analysis of the anhydride content are investigated by combined application of TG, MTA, TL, and NMR methods.