Plasma auto-ionise et a couplage inductif destine a une pulverisation et a une repulverisation

La presente invention concerne un reacteur de pulverisation a magnetron (410) et son procede d'utilisation, favorisant une pulverisation par plasma auto-ionise (SIP) et une pulverisation par plasma a couplage inductif (ICP). Cette invention concerne un ensemble d'aimants auxiliaires qui se trouvent dans une autre enceinte et qui sont places le long de parois laterales (414) d'un reacteur de pulverisation a magnetron, sur un cote, en direction de la plaquette de la cible. Le magnetron (436) est de preference petit, avec un pole externe fort (442) d'une premiere polarite, entourant un pole interne plus faible (440) d'une seconde polarite, le tout place sur un collier de deviation (444), et tourne autour de l'axe (438) de l'enceinte au moyen de systemes de rotation (446, 448, 450). Les aimants auxiliaires (462) presentent de preference la premiere polarite afin de tirer le champ magnetique non equilibre (460) vers la plaquette (424) qui se trouve sur un socle (422) sous tension (454). De l'argon (426) est apporte a travers une vanne (428). La cible (416) est sous tension (434).