基板処理装置、基板搬送装置、および基板処理方法

2000 
(57)【要約】 【課題】 成膜室内への処理前基板搬送動作と、基板予 備室への処理済み基板搬送動作とを同時に行って、基板 処理サイクルを短縮し、単位時間当たりの基板処理枚数 を増加する。 【解決手段】 真空搬送室T2を中心にして一軸上に成 膜室R、基板予備室L/Hを配置する。基板予備室L/ Hに2段構成の処理前基板収納スロットHと処理済み基 板収納スロットLとを設ける。真空搬送室T2に2段構 成の上段アーム201と下段アーム202とを伸縮自在 に設け、両アーム201、202は同時に直進動作をす る。下段アーム202が成膜室Rに処理済み基板U2を 受取りに行く動作中に、上段アーム201が基板予備室 L/Hに処理前基板U1を受取りに行く。上段アーム2 01は受取った処理前基板U1を処理室Rへ、また下段 アーム202が受取った処理済み基板U2は処理済み基 板収納スロットLへ搬送する。
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