Verfahren und Vorrichtung zum Betrieb eines Targets in einer Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage

Die Erfindung, die ein Verfahren zum Betrieb eines Targets in einer Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage, mit der Substrate auf einer Transporteinrichtung transportierbar und wahrend des Transports beschichtbar sind, wobei das Target mittels eines Magnetron mit einem Sputterprozess ohne eine Beschichtungsfunktion beaufschlagt wird und eine Vorrichtung zur Durchfuhrung des Verfahrens betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, den Kosten- und Materialaufwand wahrend des Einsputterns zu reduzieren und auch einen Betrieb ohne Substrat zu ermoglichen. Dies wird dadurch gelost, dass die Transporteinrichtung wahrend der Einsputterphase eine Beschichtung vermeidend unabhangig von einer moglichen Abdeckung durch ein Substrat abgedeckt wird.