Systeme de fabrication et procede de production d'un dispositif electroluminescent

L'invention concerne un procede de depot par evaporation sous vide, et un systeme de formation de couches par evaporation sous vide, qui permet une meilleure exploitation des materiaux electroluminescents, et la formation de materiaux electroluminescent presentant une uniformite elevee avec une vitesse de production elevee. Le procede decrit consiste a deplacer dans une chambre de depot de couche, a une distance predeterminee d'un substrat, un support rectangulaire de source d'evaporation qui comprend une pluralite de receptacles contenant des materiaux vaporisables, et a deposer le materiau vaporisable sur le substrat par evaporation sous vide. La direction longitudinale du support de la source d'evaporation rectangulaire peut former un angle avec un cote du substrat, pendant le mouvement du support de materiau d'evaporation. Lors de la formation d'un transistor a couches minces (TFT), il est preferable que pendant le depot par evaporation sous vide, la direction de deplacement du support de la source d'evaporation soit differente du mouvement de balayage du faisceau laser.