Substrates for mirrors for EUV lithography and the production thereof

Fur die Herstellung von Spiegel fur die EUV-Lithographie werden Substrate vorgeschlagen mit einer mittleren relativen Warmelangenausdehnung von nicht mehr als 10 ppb uber eine Temperaturdifferenz ΔT von 15°C. Zu diesem Zweck werden mindestens ein erstes und ein zweites Material mit niedrigem Warmeausdehnungskoeffizienten und entgegengesetzter Steigung der relativen Warmeausdehung in Abhangigkeit von der Temperatur ausgewahlt und durch Mischen und Verbinden dieser Materialien ein Substrat hergestellt.