Cible en titane pour pulvérisation cathodique et son procédé de fabrication

L'invention porte sur une cible en titane de haute purete ayant une purete superieure ou egale a 5N5 (99,9995 %) et caracterisee en ce qu'il n'y a pas de macro-motifs presents sur sa surface. La cible de pulverisation cathodique en titane de haute qualite selon la presente invention presente une diminution des impuretes qui forment des particules et provoquent des phenomenes de decharge anormale, de sorte que des craquelures et une fissuration n'apparaissent pas pendant la pulverisation cathodique a haute vitesse, ce qui stabilise ainsi les caracteristiques de pulverisation cathodique et permet de supprimer efficacement l'apparition de particules pendant le depot et d'augmenter l'uniformite du depot.